國產光刻機真的來了，適用28nm工藝，上海微電子出品
2020-6-8 17:44:58??????點擊：
[導讀]近，半導體制造被卡脖子的消息引發業界極大關注，其中一個重量級設備就是光刻機。不過，一個好消息是，國產光刻機真的要來了，上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。
最近，半導體制造被卡脖子的消息引發業界極大關注，其中一個重量級設備就是光刻機。不過，一個好消息是，國產光刻機真的要來了，上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。
雖然不及14nm、7nm甚至5nm先進，但28nm工藝仍然是當下半導體制造的主流工藝。
作為IC制造的重要工藝，光刻是其中非常重要的一項操作，據有關數據顯示，光刻在IC制造中所占的時間最長，而光刻機在半導體整體制造設備成本中占比也高達第一位，約為27%。
因此，28nm光刻機國產化對國內半導體晶圓廠和即將上馬的半導體晶圓廠都是一個極大的利好消息。
21IC家了解到，上海微電子成立于2002年，是國內技術最領先的光刻設備廠商。
上海微電子現有4大系列的光刻機產品，其中600系列步進掃描投影光刻機面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產。500系列面向IC后道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。
光刻機小常識
所謂光刻，就是使用光在硅上印刷微小的電路圖案，從而批量生產各類集成電路芯片。光刻系統本質上是投影系統，把設計師設計的芯片圖案縮小之后刻在半導體材料上，經過復雜的加工處理，就得到了各種功能的芯片。www.004048.com
使用的光波長越小，制造芯片的工藝制程越高。光刻技術經歷了紫外全譜(300～450nm)、 G 線(436nm)、 I 線 (365nm)、深紫外(DUV，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV，13.5nm)六個階段。根據所使用的光的波長不同，可以將光刻機分為不同的種類。例如，使用極紫外(EUV，13.5nm)光的光刻機就是目前最高端的用于制造7nm工藝以上芯片的EUV光刻機。
在光刻機生產廠商中，荷蘭阿斯麥(ASML)是曝光最高的，因為它把持高端光刻機市場，是現階段唯一的EUV光刻機供應商，除了ASML，日本的佳能、尼康也是光刻機的主要供應商，它們主要針對中低端市場。上海微電子是國產光刻機的主要廠商，不過產品主要面向低端市場，經過近20年的發展，上海微電子的產品已切入了各個細分市場，例如，上海微電子取得了LED光刻機市占率第一的成績。
最近，半導體制造被卡脖子的消息引發業界極大關注，其中一個重量級設備就是光刻機。不過，一個好消息是，國產光刻機真的要來了，上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。
雖然不及14nm、7nm甚至5nm先進，但28nm工藝仍然是當下半導體制造的主流工藝。
作為IC制造的重要工藝，光刻是其中非常重要的一項操作，據有關數據顯示，光刻在IC制造中所占的時間最長，而光刻機在半導體整體制造設備成本中占比也高達第一位，約為27%。
因此，28nm光刻機國產化對國內半導體晶圓廠和即將上馬的半導體晶圓廠都是一個極大的利好消息。
21IC家了解到，上海微電子成立于2002年，是國內技術最領先的光刻設備廠商。
上海微電子現有4大系列的光刻機產品，其中600系列步進掃描投影光刻機面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產。500系列面向IC后道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。
光刻機小常識
所謂光刻，就是使用光在硅上印刷微小的電路圖案，從而批量生產各類集成電路芯片。光刻系統本質上是投影系統，把設計師設計的芯片圖案縮小之后刻在半導體材料上，經過復雜的加工處理，就得到了各種功能的芯片。www.004048.com
使用的光波長越小，制造芯片的工藝制程越高。光刻技術經歷了紫外全譜(300～450nm)、 G 線(436nm)、 I 線 (365nm)、深紫外(DUV，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV，13.5nm)六個階段。根據所使用的光的波長不同，可以將光刻機分為不同的種類。例如，使用極紫外(EUV，13.5nm)光的光刻機就是目前最高端的用于制造7nm工藝以上芯片的EUV光刻機。
在光刻機生產廠商中，荷蘭阿斯麥(ASML)是曝光最高的，因為它把持高端光刻機市場，是現階段唯一的EUV光刻機供應商，除了ASML，日本的佳能、尼康也是光刻機的主要供應商，它們主要針對中低端市場。上海微電子是國產光刻機的主要廠商，不過產品主要面向低端市場，經過近20年的發展，上海微電子的產品已切入了各個細分市場，例如，上海微電子取得了LED光刻機市占率第一的成績。
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